cmp抛光机是什么？是怎么生产出来的？这些都离不开技术的使用。首先它是抛光机的一种，而抛光机也被称为研磨机，常常被用来作机械式研磨、抛光及打蜡，所以cmp抛光机就是采用cmp技术生产使用的抛光机，可以更好的满足精细设备生产的需求。

cmp抛光机，把这个设备名称拆开来看，它是由两个部分组成的，开头的cmp是英文Chemical Mechanical Polishing的简写，俗称化学机械抛光，而CMP技术所采用的设备和消耗品就包括抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测和工艺控制设备、废物处理和检测设备等。这个技术的概念也是在1965年被提出，该技术刚开始是用于获取高质量的玻璃表面，比如军用望远镜等。

同时，抛光机是一种电动工具，它的工作原理是电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛，抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂的共同作用，并与待抛表面开始进行摩擦，以此来达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的诸多目的。那么这两者结合之后会在工作过程中带来什么样的惊喜突破呢？在现在工业生产过程中，两者结合之后生产出的抛光机也经常被应用于一些精细化设备的生产，比如单晶硅片、导体和多晶硅等产品。

所以cmp抛光机和普通的抛光机肯定是不同的，作业效果也一定不同。因为CMP是通过化学的和机械的综合使用，避免了因为单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯的化学抛光容易造成的抛光速度慢和性能差等出现的问题，它区别于普通的抛光机工作原理，利用了磨损中的“软磨硬”原理，通俗来说就是通过较软的材料来进行抛光作业，来达到实现高质量的表面抛光的目的。