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影响cmp抛光机发展迅速的原因

作者:    时间:2022-04-06    阅读量:2083

说到半导体行业就不得不说材料和设备了,们是半导体产业的基石,而今天的主角是cmp抛光机,该机器在行业中的发展,从潜力方面来说是非常巨大的。发展速度也是较快的,所创造的经济效益也是一笔巨大的数字。

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总结了许多的影响它发展的原因,居然有五个之多。其一是因为市场的调配,材料的稀缺,导致价格过高,因此它的需求量也是比较明显的增长,随着5G行业以及新能源行业的蓬勃发展,半导体材料的需求也是在日益见长,因此机器使用的数量也是在不断增长。其二是资本的介入,作为产业链稀缺资源的材料,它的竞争优势明显,毛利率高,是资本必争之地。在这里面,资本打架,谁都想分一杯羹,因此这个行业的炒作也是较多的。

其三是因为技术的原因,随着各种新型行业的崛起,对于半导体的材料的厚度和光泽也有要求了, 举个例子,28nm工艺芯片要用到12次抛光,一旦进入到10nm,就要高达30次抛光。随着制程越来越先进,抛光次数也越来越多,机器的损耗率也在提升。其四是因为国内的产品正在慢慢发展,我国在政策上面开始扶持一批新型产业,如此在业内国产的产品也是占据了一小部分。其五是因为制造业的重心正在慢慢往国内迁移,促使我国的增长率不断提高,产能的持续增长,使得我国的半导体行业得以飞速发展。

cmp抛光机的发展迅速,到现在为止,已经成为了半导体行业难替代的那一个,它广泛应用在集成电路、光电子器件、分立器件和传感器方面,半导体材料已经成为电子器件的基础材料且在性价比上面暂时无可替代。

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