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几款半导体设备的功能介绍

作者:    时间:2023-04-26    阅读量:1674

随着互联网时代的兴起,科学技术的不断进步,半导体产业得以迅速崛起,中国半导体设备产业进入高速发展的黄金期,未来半导体芯片将成为市场主流。半导体设备将会朝着精细化程度更高、科技含量更高、自动化程度更高、质量更为上乘的方向发展。在半导体产品终端需求爆发、单位产能工序增加、设备单价不断上升等多方因素的共同驱动下,半导体设备未来的增长前景将会十分广阔。

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现介绍几款新型的半导体设备功能:

(1)减薄机:减薄机操作简单,仅需PC工控机系统控制,便能实现触摸屏一键操作,完成半导体自动研削加工,自动化程度高;功能全面,具有自动检测晶圆的薄厚,实现测厚补偿,多段研削程序,超负荷等待功能,满足客户的各种工艺需求;兼容性能良好,能根据各客户需求制定个性化工作台,满足各种类型半导体材料的研削薄化工艺,打造个性的半导体芯片;机型小,占地面积小,占用空间小,对场地要求程度低,适用能力强。

(2)研磨抛光机:抛光机由铸铁机身打造,设备性能稳定程度高,功能全面,人机对话操作界面简单便捷,抛光头具有自动转头功能、摆动功能,可实现高速抛光,能按照需求选择真空压头或砝码压块,跟减薄机一样,机型小,占地面积小,适用能力强。

(3)CMP:英文全称Chip multiprocessors,它的功能齐全,具有气囊背压功能、使用抛光盘内置冷却系统,能根据机械摆臂式修理器、摩擦力和温度检测终端监控功能,实现芯片的快速抛光处理,操作简单,仅需PC工控机系统控制,实现触摸屏一键操作,智能化和自动化程度高;兼容性佳,使用独立的3路供液管路,快速高效的更换抛光盘,能兼容不同尺寸、类型的晶圆,机型较小,适应各种场地。

半导体设备还有固体蜡贴片机、晶片刷洗机、CMP后清洗机等,高度的智能化和自动化,能帮助客户提高生产效率、降低芯片成本,实现半导体产品的一条龙服务。未来,半导体设备将继续朝着高效、高精度、高度智能和多功能化的方向发展,为半导体工业的发展提供更有力的支持。

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